荷蘭，埃因霍溫。

ASML公司。

“普拉多，京城半導體裝置公司上週三，向中國國家專利局遞交了磁懸浮式光刻機雙工作臺系統的公司發明專利申請，能提高晶片製程工藝精度15%，提高晶片產量35%，對方搶在了我們的前面。”

理查德得到訊息後，向普拉多彙報，工程師瓊斯今年五月向公司申請，研發光刻機雙工作平臺系統專案，公司撥款一百萬美元的研究經費，成立了二十人的專案聯合研發組，如今還沒有結果。

“理查德，你趕緊派人，瞭解清楚這項公司發明專利的實質內容，是否與瓊斯正在研發的雙工作平臺系統專案的思路相同？”

“好的！”