第一一一八章 浸沒式光刻系統遇到難題

800nm製程工藝的專利技術對於gca來說如同雞肋，但對於bsec如同神助，掌握後就能跨越1um製程工藝，掌握800nm製程工藝技術。

擁有了193nm的arfi準分子鐳射器的製造技術和800nm製程工藝的專利技術，但bsec還不能生產自主智慧財產權的1um製程工藝的光刻機。

為了將來不被美國政府卡脖子，未雨綢繆，bsec要掌握生產光刻機的三大核心技術：光源系統、光學系統和工作臺系統，不斷升級換代。

叮囑鄧國輝，bsec光刻機光源研究所研究清楚gmarf準分子鐳射器的工作原理和製造技術，光刻機光源公司自己生產；叮囑陳偉長，bsec光刻機光學研究所自己研製成功6英寸晶圓和1um製程工藝的光學鏡頭和反射鏡頭，光刻機光學公司自己生產。

孫健承諾，bsec在2年內生產具有自主智慧財產權的6英寸晶圓和1um製程工藝的光刻機，淘寶控股公司掏錢獎勵專案組200萬元；在4年內能生產一條具有自主智慧財產權的6英寸晶圓和1um製程工藝的半導體生產線，他從淘寶控股公司持有的bsec股份中，拿出200萬股獎勵給做出重大貢獻的科技和生產人員，但在規定時間內，完不成任務，就開始裁員！

獎勵和裁員雙管齊下，管理層、技術人員和普通員工的壓力劇增。

鄧國輝拿到arf準分子鐳射器專利技術，同錢富強仔細研究一番後，如醍醐灌頂，豁然開朗，申請2000萬元的研發經費，帶領光刻機光源研究所按照gca提供的技術圖紙，消化吸收arf準分子鐳射器的專利技術……

1995年2月，經過一年半的攻關，光刻機光源公司生產出一臺6英寸晶圓和1um製程工藝的光刻機。

1995年9月，bsec生產了一條有自主智慧財產權的6英寸晶圓和1um製程工藝的半導體生產線，填補了國內技術空白，開啟了國內市場，終於拋掉三年鉅虧的不利局面，1995年度實現淨利潤11600萬元。

1996年4月20日，bsec拿到公開發行新股的額度，6月11日，在鵬城證券交易所公開發行了15000萬股新股（其中1000萬股職工股），每股發行價6元，融資8.73億元（扣除發行費用），其中8億元用於研發8英寸晶圓和500nm製程工藝光刻機，0.73億元用於補充公司流動資金。

當時bsec研製的6英寸晶圓和800nm製程工藝的光刻機已經臨近尾聲。

“鄧院長，研究院繼續研發8英寸晶圓和500nm工藝的光刻機。”

“好的，董事長！”

“魏總，公司爭取早日生產出一條具有自主智慧財產權的6英寸晶圓和800nm製程工藝的半導體生產線，到時，pgca率先訂購一條。”

“好的，董事長！”