第一三八四章 光刻機的現狀（上）

EUVLLc聯盟的研發費用出資比例中，牽頭的美國能源部出30%，Intel和GcA各出20%，otorola、Ib、It、Ad和hp各出4%，icron和cyer等其他33家科技企業和研究機構共出10%，今後享受的權利同出資比例相同。

GcA需要出資的20%中，以前的EUV研究成果折算15%。

GcA這些年為了研發EUV投資了1.5億美元，取得了不少有關EUV的研究成果，但離成功還有很遠的距離，以GcA一家之力很難完成，湯普森院長不得不放棄，出面邀請美國能源部和Intel等光刻機和半導體產業的同行，美國能源部牽頭成立了EUVLLc。

美國能源部的三家國家實驗室、Intel和cyer等公司這些年也在研發EUV，但遠遠落後在GcA的後面，湯普森院士眾望所歸，成了EUVLLc聯盟的cto。

作為GcA的法人兼董事長，孫健樂見其成。

光刻機公司遲遲不能攻克193n波長的世界級難題，65n製程工藝光刻機遲遲見不到身影，GcA和Nikon著急，但最著急的是財大氣粗的Intel和Ad，沒有下一代光刻機，Intel和Ad研發的下一代cpU只能成為研發成果，不能變成產品，不能上市，消費者將失去購買慾望，公司的銷售和利潤銳減，投資者用腳投票，股價下跌，市值減少，研發費用減少，研發受阻，會發生一系列連鎖反應。

前世，由於遲遲不能攻克193n波長的世界級難題，光刻機製程工藝一直停留在90n，摩爾定律失效！直到2007年左右，ASL生產的世界第一臺193n波長的浸沒式光刻機問世，一舉突破了90n製程工藝，65n、45n、32n、28n、20n、14n、10n……製程工藝越來越細，製造難度越來越大。

重生前，EUV光刻機已經誕生，臺積電已經宣佈能生產7n製程工藝的晶片，全球光刻機公司就剩下ASL、Nikon、canon和滬海微電子（SEE）等四家。