第一三八六章 光刻機的現狀(下)

我的一九八五·解剖老師·2,342·2026/3/27

“董事長,要是Nikon在我們之前,率先攻克157nm鐳射器技術,率先研發成功65nm製程工藝的光刻機,我們如何應對?” CTO湯普森知道EUV光刻機不是短時間內能研製成功的,也主張兩條腿走路,GCA研究院如今也在研發157nm鐳射器,由於GCA一直以研發EUV為主,157nm鐳射器的技術遠不如Nikon和SVG,投資10美元,要是能夠收購SVG,拿到SVG獨有的157nm鐳射器需要配置的反折射鏡頭技術,不能反超Nikon,也能同Nikon並肩齊驅。 孫董事長不同意公司收購SVG,湯普森也不理解。 EUV LLC聯盟規劃投資2億美元,集合200多位頂尖科學家,目的就是從理論上驗證了EUV光刻機的可行性?理論驗證完成後,EUV LLC聯盟將宣佈解散,將研製EUV和EUV光刻機的難題交給GCA,據同行在一起估算,研發投資起碼要花50億美元! 湯普森領導EUV LLC聯盟的200多位科學家,研究了2年多,還沒有驗證清楚EUV光刻機的可行性? “湯普森院長的擔憂也有道理,除了加強研發力量繼續研究157nm鐳射器技術外,艾德里安先生可以同Papken先生接觸一下,看對方是否願意出售反折射鏡頭技術的專利?價格可以商量” Papken是SVG的執行長。 孫健本來不想在董事會上談論收購SVG的事情,但湯普森的提問代表GCA高層的疑惑,不得不正面回應。 當時因為BSEC研究院光源研究所還沒有研發成功193nm浸沒式光刻機技術,孫健不反對GCA研究院兩條腿走路,但BSEC研究院光源研究所去年已經研發成功193nm浸沒式光刻機技術,GCA再繼續投入巨資研發157nm鐳射器就是多此一舉,但也不能打擊眾人的積極性。 “好的,董事長!” 艾德里安心裡好奇,為什麼孫董事長不同意收購SVG?似乎對研發157nm鐳射器技術不是特別支援,難道還有更好的方法?明白Papken不會低價出售反折射鏡頭技術的專利。 “湯普森院長,EUV LLC聯盟一旦從理論上驗證了EUV光刻機的可行性後,要是GCA繼續研發EUV光刻機,理論上大概需要多少投資” 孫健轉移話題,也是告訴公司高層,GCA賬上的現金流不是多了,而是遠遠不夠。 前世,EUV LLC聯盟的幾百位頂尖科學家在一起聯合研發了6年多,發表了幾百篇科研論文,從理論上驗證了EUV光刻機是可行的,目的達到,解散了EUV LLC聯盟,接下來的實際問題都拋給了ASML,面對如此高深的技術,ASML是選擇做還是不做? ASML一家之力不可能完成研製成功EUV光刻機這項宏偉工程,不得不拿出公司近三成的股權,向下遊光刻機重要客戶Intel、臺積電和三星電子融資了60多億美元! 據說為了研發EUV光刻機,ASML前前後後在將近20年時間內投入上百億美元的研發費用。 GCA和Nikon佔據光刻機的高階市場,技術水平不分仲伯,但由於高階光刻機使用者Intel、IBM、IT、ADM、HP同GCA既是Sematech會員,又是GCA的股東,採用一致對外的策略,GCA的高階光刻機是首選,GCA如今佔據全球高階市場份額的近7成,NiKon佔3成多。 在技術水平相同的情況下,市場起決定因素。 根據光刻機技術和市場佔有率,GCA如今成為名副其實的全球老大,Nikon屈居第二。 Nikon想從GCA的手裡搶回Intel、IBM、IT、ADM、HP的高階光刻機訂單,只能率先攻克193nm波長的世界性難題,第一個研發成功65nm製程工藝的光刻機才有可能。 在Nikon技術領先的情況下,Intel、IBM、IT、ADM、HP就會以公司的利益為重。 ASML的工程師瓊斯帶領20多人的研發部門經過3年多時間的研發,於1996年9月,研發成功全球第二款具有自主智慧財產權的光刻機雙工作平臺系統,但為時已晚,ASML和其他光刻機公司都購買了BSEC的專利技術,自己生產光刻機雙工作平臺系統,BSEC負責升級;除了GCA,其他公司生產一臺光刻機需要繳納相當於每臺光刻機售價1的專利使用費。 GCA如今已經升級配套90nm製程工藝的磁懸浮式雙工作臺系統技術,遙遙領先於ASML的技術,按照專利技術轉讓協定,BSEC交給了Nikon、ASML、Canon和SVG。 全球光刻機使用者已經習慣使用BSEC磁懸浮式雙工作臺系統技術,ASML在中高階光刻機上還是使用BSEC的,在低端光刻機上使用自研的。 魏建國等BSEC的高層們都敬佩孫董事長的遠見卓識,1999年度,公司光靠這項全球領先的公司發明專利,收取的專利技術轉讓費就達到公司淨利潤的165,這些年賺得盆滿缽滿。 ASML先後在阿姆斯特丹和納斯達克上市,研發資金有了保障,去年10月,第三個研發成功180nm製程工藝的光刻機,技術水平排在Canon的前面,憑藉歐洲和韓國光刻機市場,佔據全球中高階市場5成的市場份額。 第三大股東飛利浦公司不看好ASML的發展前景,加上公司電器業務出現問題,造成資金緊張,在高位逐漸清空了ASML的股票,退出了董事會,蔡司集團成為第三大股東。 ASML如今總股本增加到15000萬股(去年10送5股),TIC持有2250萬股,佔股15,這些年沒有買也沒有套現。 ASML在納斯達克市場上的股票收盤235美元,L不僅是一個投資品種,也是一個備胎。 “孫總,據大傢俬下估算,沒有50億美元的投入,看不到EUV光刻機的影子。” 湯普森感覺壓力巨大,孫董事長似乎知道研究EUV光刻機的重要性和難度,投入巨資,最後失敗了,GCA可能要破產! 眾董事也是一臉驚訝,這是第一次從湯普森的口裡得知,即使EUV LLC聯盟驗證EUV光刻機的可行性,GCA繼續研發EUV光刻機,起碼還需要50億美元的研發投入! 一旦失敗,對GCA將造成毀滅性的打擊,但孫董事長似乎並不擔心。

“董事長,要是Nikon在我們之前,率先攻克157nm鐳射器技術,率先研發成功65nm製程工藝的光刻機,我們如何應對?”

CTO湯普森知道EUV光刻機不是短時間內能研製成功的,也主張兩條腿走路,GCA研究院如今也在研發157nm鐳射器,由於GCA一直以研發EUV為主,157nm鐳射器的技術遠不如Nikon和SVG,投資10美元,要是能夠收購SVG,拿到SVG獨有的157nm鐳射器需要配置的反折射鏡頭技術,不能反超Nikon,也能同Nikon並肩齊驅。

孫董事長不同意公司收購SVG,湯普森也不理解。

EUV LLC聯盟規劃投資2億美元,集合200多位頂尖科學家,目的就是從理論上驗證了EUV光刻機的可行性?理論驗證完成後,EUV LLC聯盟將宣佈解散,將研製EUV和EUV光刻機的難題交給GCA,據同行在一起估算,研發投資起碼要花50億美元!

湯普森領導EUV LLC聯盟的200多位科學家,研究了2年多,還沒有驗證清楚EUV光刻機的可行性?

“湯普森院長的擔憂也有道理,除了加強研發力量繼續研究157nm鐳射器技術外,艾德里安先生可以同Papken先生接觸一下,看對方是否願意出售反折射鏡頭技術的專利?價格可以商量”

Papken是SVG的執行長。

孫健本來不想在董事會上談論收購SVG的事情,但湯普森的提問代表GCA高層的疑惑,不得不正面回應。

當時因為BSEC研究院光源研究所還沒有研發成功193nm浸沒式光刻機技術,孫健不反對GCA研究院兩條腿走路,但BSEC研究院光源研究所去年已經研發成功193nm浸沒式光刻機技術,GCA再繼續投入巨資研發157nm鐳射器就是多此一舉,但也不能打擊眾人的積極性。

“好的,董事長!”

艾德里安心裡好奇,為什麼孫董事長不同意收購SVG?似乎對研發157nm鐳射器技術不是特別支援,難道還有更好的方法?明白Papken不會低價出售反折射鏡頭技術的專利。

“湯普森院長,EUV LLC聯盟一旦從理論上驗證了EUV光刻機的可行性後,要是GCA繼續研發EUV光刻機,理論上大概需要多少投資”

孫健轉移話題,也是告訴公司高層,GCA賬上的現金流不是多了,而是遠遠不夠。

前世,EUV LLC聯盟的幾百位頂尖科學家在一起聯合研發了6年多,發表了幾百篇科研論文,從理論上驗證了EUV光刻機是可行的,目的達到,解散了EUV LLC聯盟,接下來的實際問題都拋給了ASML,面對如此高深的技術,ASML是選擇做還是不做?

ASML一家之力不可能完成研製成功EUV光刻機這項宏偉工程,不得不拿出公司近三成的股權,向下遊光刻機重要客戶Intel、臺積電和三星電子融資了60多億美元!

據說為了研發EUV光刻機,ASML前前後後在將近20年時間內投入上百億美元的研發費用。

GCA和Nikon佔據光刻機的高階市場,技術水平不分仲伯,但由於高階光刻機使用者Intel、IBM、IT、ADM、HP同GCA既是Sematech會員,又是GCA的股東,採用一致對外的策略,GCA的高階光刻機是首選,GCA如今佔據全球高階市場份額的近7成,NiKon佔3成多。

在技術水平相同的情況下,市場起決定因素。

根據光刻機技術和市場佔有率,GCA如今成為名副其實的全球老大,Nikon屈居第二。

Nikon想從GCA的手裡搶回Intel、IBM、IT、ADM、HP的高階光刻機訂單,只能率先攻克193nm波長的世界性難題,第一個研發成功65nm製程工藝的光刻機才有可能。

在Nikon技術領先的情況下,Intel、IBM、IT、ADM、HP就會以公司的利益為重。

ASML的工程師瓊斯帶領20多人的研發部門經過3年多時間的研發,於1996年9月,研發成功全球第二款具有自主智慧財產權的光刻機雙工作平臺系統,但為時已晚,ASML和其他光刻機公司都購買了BSEC的專利技術,自己生產光刻機雙工作平臺系統,BSEC負責升級;除了GCA,其他公司生產一臺光刻機需要繳納相當於每臺光刻機售價1的專利使用費。

GCA如今已經升級配套90nm製程工藝的磁懸浮式雙工作臺系統技術,遙遙領先於ASML的技術,按照專利技術轉讓協定,BSEC交給了Nikon、ASML、Canon和SVG。

全球光刻機使用者已經習慣使用BSEC磁懸浮式雙工作臺系統技術,ASML在中高階光刻機上還是使用BSEC的,在低端光刻機上使用自研的。

魏建國等BSEC的高層們都敬佩孫董事長的遠見卓識,1999年度,公司光靠這項全球領先的公司發明專利,收取的專利技術轉讓費就達到公司淨利潤的165,這些年賺得盆滿缽滿。

ASML先後在阿姆斯特丹和納斯達克上市,研發資金有了保障,去年10月,第三個研發成功180nm製程工藝的光刻機,技術水平排在Canon的前面,憑藉歐洲和韓國光刻機市場,佔據全球中高階市場5成的市場份額。

第三大股東飛利浦公司不看好ASML的發展前景,加上公司電器業務出現問題,造成資金緊張,在高位逐漸清空了ASML的股票,退出了董事會,蔡司集團成為第三大股東。

ASML如今總股本增加到15000萬股(去年10送5股),TIC持有2250萬股,佔股15,這些年沒有買也沒有套現。

ASML在納斯達克市場上的股票收盤235美元,L不僅是一個投資品種,也是一個備胎。

“孫總,據大傢俬下估算,沒有50億美元的投入,看不到EUV光刻機的影子。”

湯普森感覺壓力巨大,孫董事長似乎知道研究EUV光刻機的重要性和難度,投入巨資,最後失敗了,GCA可能要破產!

眾董事也是一臉驚訝,這是第一次從湯普森的口裡得知,即使EUV LLC聯盟驗證EUV光刻機的可行性,GCA繼續研發EUV光刻機,起碼還需要50億美元的研發投入!

一旦失敗,對GCA將造成毀滅性的打擊,但孫董事長似乎並不擔心。

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