“董事長，鄧院士他們發現ASmL向世界專利局申請的浸沒式光源系統的公司發明專利，其中134nm鐳射光源使用純淨水作為浸沒

正在鵬城總部召開鵬城證券公司股東大會的孫健接到魏建國的電話。

去年12月11-13日，日本半導體展（SEmIcoNJapan）召開，ASmL正式推出浸沒式光刻機的原型機，在ASmL的實驗室驗證其製程工藝達到65nm，宣稱擁有完全自主智慧財產權。