“董事長，ASmL向世界專利局申請的浸沒式光源系統的公司發明專利，被bSEc提起了專利異議，其中134nm鐳射光源使用純

林本堅接到ASmL總裁普拉多的電話後，心裡一沉，立馬向張仲謀彙報。

臺積電去年7月就向ASmL預定了20臺65nm製程工藝的浸沒式光刻機（命名為xt1400i浸沒式光刻機）的同時，為了趕時間，一條65nm製程工藝半導體生產線的基建工作就開始建設，xt1400i浸沒式光刻機原計劃今年三月開始生產，8月就能到貨，進入裝置安裝階段，明年3月就能試生產，只比其他採用65nm製程工藝的bSEc浸沒式光刻機半導體生產線晚半年左右。

“浸沒原理不是林工2002年在布魯塞爾舉行的157nm微影技術的研討會提出來的嗎？ArF鐳射器發射的193nm光源透過純淨水的折射，得到了波長134nm的光源，如今大家都知道純淨水作為光源介質的路徑，bSEc什麼時候申請浸沒式光源系統專利的？”

張仲謀面色陰沉，立馬認識到了問題的嚴重性，計劃投資18億美元提前開工的半導體生產線遇到大麻煩了！

國際公司發明專利申請一般需要18個月的時間，一旦bSEc不給ASmL授權，ASmL需要重新尋找新的浸沒介質替代純淨水，一年內很難完成研製，等拿到公司發明專利，也許bSEc的40nm浸沒式光刻機都研發成功了。

張仲謀心裡明白，等林本堅和ASmL發現bSEc申請了純淨水作為浸沒介質的專利已經來不及了，只能硬著頭皮繼續研究，等有結果後再說。

（本章完）