第一八二五章 尼康45nm乾式光刻機橫空出世

6月2日上午，孫健在辦公室，從PN（鯤鵬網）首頁上看到一則一百多字的新聞（轉載GPN）：尼康45nm乾式光刻機橫空出世！立馬引起了他的眼球，尼康公司今日公開宣佈，尼康公司同SELETE合作，在65nm製程工藝乾式光刻機NSR-S308F的基礎上，經過一年多的努力，研製成功45nm乾式光刻機DSP-100；同時宣佈，尼康公司將聯合SELETE、爾必達、東芝、富士通公司，投資2350億日元（相當於20億美元），在東京都千代田區建設全球第一條45nm製程工藝的半導體生產線。

GCA控股的GPN（地理鯤鵬網）早就進入日本，但沒有進入中國；PENG控股的PN沒有進入美國和日本等西方國家和地區；GPN和PN在世界各地共有4000多名記者，為了節約成本，共享新聞資源等，2000年1月16日，雙方簽訂了資源共享合作協議，無償轉載對方的新聞報道等。

美西方國家發生的大事，中國等東南亞國家發生的大事，在中國或美國的網民，第一時間就能從PN或GPN上看到。

半導體前沿技術公司研發協會（SELETE）是1996年3月，由富士通、日立、松下、三菱電機、NEC、衝電氣、三洋電機、夏普、索尼、東芝、尼康和佳能等13家半導體公司，每家出資5億日元成立的半導體技術共同開發公司。

美國成立SEMATECH，致使日本失去半導體行業第一的位置後，成立SELETE是日本半導體產業界為了重回全球第一所做的嘗試，組織採用分層組織結構，領頭推動整個研發進展，領導三大前沿技術的研發：前端工藝，後端工藝，用於65nm和45nm製程工藝的光刻和掩模工藝。

爾必達（ELPIDA）如今是日本唯一一家動態隨機存取儲存器（DRAM）生產企業，1999年由日立、NEC和三菱電機的DRAM業務整合成立，2004年在東京證券交易所主機板上市。其DRAM業務佔據全球市場份額第三，主要供應戴爾、索尼等PC廠商。

前世沒有聽說過尼康45nm乾式光刻機！

全球光刻機的歷史程式已經改變！

孫健不僅不擔心，反而眼前一亮，BSEC雪藏了一年多的45nm製程的浸潤式光刻機TWINSCANNXT:3360i，終於可以光明正大的面世了。

打電話讓魏建國瞭解詳細情況？

“董事長，鄧院長說，尼康DSP-100乾式光刻機雖然採用尼康公司自研的157nm波長鐳射器，但配備尼康公司自研的Polano偏振照明系統後，能夠滿足45nm製程的光刻需求，但同我們的3360i相比，他們有兩個短時間很難解決的缺陷，一是氟化鈣鏡頭的良品率低，價格昂貴，導致DSP-100的市場價定價會比我們貴50%左右；二是如今沒有同45nm製程乾式光刻機相匹配的磁懸浮式雙工作臺系統，工作效率會低15%左右。雖然尼康公司佔據先發優勢，但一旦3360i公佈於眾，英特爾和AMD都不會購買DSP-100。”

魏建國從鄧國輝那裡得到準確的訊息後，向孫健彙報，話語中透著輕鬆和自信，他們也不擔心。

BSEC光刻機研究院從去年4月就已經開始研發32nm製程的浸潤式光刻機，今年3月就生產出了試驗樣機。

去年7月18日，全球第一條65nm半導體生產線在PGCA量產的訊息傳到尼康公司，上下震動很大，雖然尼康研發成功的65nm製程的乾式光刻機NSR-S308F隨時可以量產，由於各方面的原因，當時沒有國際晶圓廠家願意訂購，力推157nm波長乾式光刻機發展方向的顧問吉田一郎召集公司高管商議對策。

現任會長森佳照明堅持沿著既定的技術路線穩步推進，只要能率先研發成功45nm製程乾式光刻機，才能一舉扭轉被動局面，就能繼續引領全球光刻機的發展方向；研究所所長兼副總裁小川鬱子和財務副總裁蘭布林支援森佳照明的決定。

副總裁諾利克建議公司放棄乾式光刻機路線，投資研發浸潤式光刻機。

常務副總裁原田弘樹建議公司兩條腿走路。

吉田一郎支援森佳照明等人的意見，抓緊時間研發45nm製程乾式光刻機。

去年5月，Nikon研製的NSR-S308F乾式光刻機量產，配備尼康公司自研的Polano偏振照明系統後，能夠滿足65nm製程的光刻需求。

SELETE購買了2臺。

“魏總，等DSP-100在市場上發酵一週後，我們再向外公佈3360i，7月下旬量產，開始預訂。”

按照浸潤理論，採用浸潤式技術，193nm波長可以穿透純淨水，最高實現22nm的精度，浸潤式技術還可以獲得更好的景深。不需要真空或氮氣條件，不需要更換掩膜，不需要更換光刻膠。

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蔡司公司為2250i設計了新的物鏡，方便更換鏡頭，發明瞭浸潤罩（immersionhood）技術，將一片很小的水面保持在鏡頭下方，上下接觸而不會溢位。由於光照會影響水的溫度，需要保持流水，同時水流控制還要避免旋渦和水泡。

BSEC光刻機研究院研究了雜質的來源，設法將原來的4000個缺陷減少為零。將鏡頭和晶圓浸水之前，先用表面活性液體浸泡，減少沾染。在晶圓的邊緣設定密封環（sealring），避免水溢位，消除漩渦，將雜質帶走，降低缺陷率。另一個方法是透過曝光流程的最佳化，大幅度降低不可復原的缺陷數量。

浸潤式技術在曝光時需要將鏡頭和晶圓曝光區域浸入水中，量測時卻需要晶圓上沒有水。雙工作臺系統不光將量測和曝光兩道工序分開，還將乾式量測和浸潤曝光分開，幾乎是為浸潤式光刻機量身定做的。

BSEC光刻機自動化研究所先後為2250i和3360i升級了磁懸浮式雙工作臺系統。

BSEC在研發成功TWINSCANBNT:2250i後，向中國專利局和世界專利局同時申請了9項技術專利，其中2項核心技術專利。

157nm光波的乾式光刻機對環境要求相對簡單，不需要考慮液體介質的純度、流動性、對光刻膠和晶圓的影響等相關問題，工藝控制相對容易，裝置的維護和保養也相對簡單一些。

由於157nm光波存在吸收效應，不能用水作為浸潤介質，需要價格昂貴的氟化鈣鏡頭，導致同製程的157nm光刻機比浸潤式光刻機貴50%左右。

“好的，董事長！”

魏建國笑了。

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