我的一九八五 “董事长,邓院士他们发现ASmL向世界专利局申请的浸没式光源系统的公司发明专利,其中134nm镭射光源使用纯净水作为浸没作者:解剖老师正在鹏城总部召开鹏城证券公司股东大会的孙健接到魏建国的电话。去年12月11-13日,日本半导体展(SEmIcoNJapan)召开,ASmL正式推出浸没式光刻机的原型机,在ASmL的实验室验证其制程工艺达到65nm,宣称拥有完全自主智慧财产权。上一章返回目录下一章