我的一九八五 “董事長,鄧院士他們發現ASmL向世界專利局申請的浸沒式光源系統的公司發明專利,其中134nm鐳射光源使用純淨水作為浸沒作者:解剖老師正在鵬城總部召開鵬城證券公司股東大會的孫健接到魏建國的電話。去年12月11-13日,日本半導體展(SEmIcoNJapan)召開,ASmL正式推出浸沒式光刻機的原型機,在ASmL的實驗室驗證其製程工藝達到65nm,宣稱擁有完全自主智慧財產權。上一章返回目錄下一章