我的一九八五 “劉悅，鄧建國打電話報喜，光學研究所研製成功1um製程工藝的光學系統，我明天上午坐飛機趕往京城祝賀，過幾天就回來。”

九日下午，孫健帶著家人正在遊覽毗鄰老城皇廟的豫園，突然接到鄧建國的報喜電話，非常高興，bsec離研製成功6英寸晶圓和1um製程工藝的光刻機又近了一步。

去年八月，bsec拿到了gca擁有的arf準分子鐳射器和800nm製程工藝的專利技術，院長兼光刻機光源研究所所長鄧國輝的團隊，一共76人，聚集了國內光刻機光源系統最強隊伍，光刻機光源研究所的實驗裝置和材料也是世界最新的，透過拆卸gca牌arf準分子鐳射器，同專利技術和製造圖紙相互印證，經過三個月的研究和實踐，團隊消化吸收了arf準分子鐳射器的專利技術，今年六月，光刻機光源公司造出了國內第一臺arf準分子鐳射器，本土化率近七成，達到了gca牌arf準分子鐳射器的產品質量標準。

arf準分子鐳射器的製造成功，對bsec也是一次技術實力和製造能力的檢閱。

如今，鄧國輝院長和錢富強助理帶領光刻機光源研究所，正在研發arfi準分子鐳射器，重生者寄希望五年左右實行彎道超車。

bsec還沒有研發成功6英寸晶圓和1um製程工藝的光刻機，而nikon和gca已經先後研發成功8英寸晶圓和350nm製程工藝的光刻機，正在研發8英寸晶圓和250nm製程工藝，對方淘汰的專利技術還是bsec正在研發的，技術實力相差太大，鄧院士等人生出一股無力感。

不是重生者指引方向，bsec研製成功全球唯一的磁懸浮式雙工作臺系統，在全球光刻機行業說話的資格都沒有。

bsec如今使用的arf準分子鐳射器專利技術屬於gca，按照雙方簽訂的專利技術轉讓協定，即使bsec研製成功arfi準分子鐳射器，專利技術也屬於gca，但浸沒式光刻系統專利技術屬於bsec。

就像gca研製成功多項磁懸浮式雙工作臺系統專利技術也屬於bsec。

一旦bsec研製成功arfi準分子鐳射器，即使瓦s納協定出臺，美國就不能在arfi準分子鐳射器上卡bsec的脖子，除非gca也不用磁懸浮式雙工作臺系統專利技術和浸沒式光刻系統專利技術。

雖然tic持有zeiss smt ag四成的股權，bsec如今也能買到zeiss smt ag生產的1um、800nm、500nm，甚至350nm製程工藝的光刻機光學系統，但隨著瓦s納協定出臺，zeiss smt ag到時也不敢供應bsec最先進的光刻機光學系統，未雨綢繆，重生者希望bsec光刻機光學系統研究所在副院長兼所長陳偉長的率領下，儘早的攻克1um製程工藝的光刻機光學系統，到時，bsec就有了立身之本。

國內將是全球最大的電器、電腦和通訊等產品的製造中心和最大的市場，6英寸晶圓和1um製程工藝的光刻機在國內還有很大的市場。

在光刻機三大核心技術中，bsec的光刻機光學系統相對最弱，陳偉長在全球範圍內高薪招聘光刻機光學系統方面的高階人才。

自從gca重新登頂光刻機世界之巔，全球多家半導體裝置和晶圓公司預定了25臺gca3500b，產品供不應求，投資者也蜂擁而至，gca昨天收盤5.41美元，1.5美元參與定向增發的機構投資者賺得盆滿缽滿。

gca一旦率先研製成功250nm製程工藝的光刻機，股價超過10美元都不是夢。

gca光刻機光源研究所如今有94人，超過鼎盛時期的人數，近七成是博士，人才濟濟，光刻機半導體研究院院長兼光源研究所所長古特雷斯院士還在全球範圍內高薪引進高階研發人才。